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使用XRF鍍層測厚儀要注意哪八點事項呢
2021-10-23
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XRF鍍層測厚儀是一種功能強大的材料涂/鍍層測量儀器，可應(yīng)用于材料的涂/鍍層厚度、材料組成、貴金屬含量檢測等領(lǐng)域，為產(chǎn)品質(zhì)量控制提供、快速的分析?；谖④浿形囊暣跋到y(tǒng)的中文版應(yīng)用軟件包，實現(xiàn)了對CMI主機的自動化控制，分析中不需要任何手動調(diào)整或手動參數(shù)設(shè)定?？赏瑫r測定多種元素。數(shù)據(jù)統(tǒng)計報告功能允許用戶自定義多媒體分析報告格式，以滿足特定分析報告格式要求；如在分析報告中插入數(shù)據(jù)圖表、測定位置的圖象、CAD文件等。統(tǒng)計功能提供數(shù)據(jù)平均值、誤差分析、大值、小值、數(shù)據(jù)變動范圍、相對偏...
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哪些因素會影響薄膜厚度測量儀的性呢？
2021-9-25
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薄膜厚度測量儀可無損地測量磁性金屬基體（如鋼、鐵、合金和硬磁性鋼等）上非磁性涂層的厚度（如鋁、鉻、銅、橡膠、油漆等）及非磁性金屬基體（如銅、鋁、鋅、錫等）上非導(dǎo)電覆層的厚度。涂鍍層測厚儀具有測量誤差小、可靠性高、穩(wěn)定性好、操作簡便等特點，是控制和產(chǎn)品質(zhì)量*的檢測儀器，廣泛地應(yīng)用在制造業(yè)、金屬加工業(yè)、化工業(yè)、商檢等檢測領(lǐng)域。1、薄膜厚度測量儀基體金屬磁性質(zhì)磁性法測厚受基體金屬磁性變化的影響（在實際應(yīng)用中，低碳鋼磁性的變化可以認為是輕微的），為了避免熱處理和冷加工因素的影響，應(yīng)使...
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手持式合金分析儀優(yōu)勢體現(xiàn)在三個方面
2021-8-27
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手持合金分析儀廣泛應(yīng)用于質(zhì)量控制、材料分類、合金鑒別、安全防范、事故調(diào)查等現(xiàn)場應(yīng)用情景中，合金號鑒別、金屬成分快速分析，解決工業(yè)化基礎(chǔ)的原材料分析難題，手持合金分析儀集成了的科研創(chuàng)新，是生產(chǎn)過程中對金屬材料進行識別的有力工具。同時用戶可根據(jù)自身需求，打造專屬個性化分析系統(tǒng)。手持式合金分析儀屬于X射線熒光分析儀，合金分析儀以它的高速運轉(zhuǎn)的性能和的電子設(shè)備，為我們保持樣品激發(fā)的度和簡單發(fā)射的按鈕，當(dāng)我們在一個很惡劣的自然環(huán)境需要用到合金分析儀的時候，它并不會受到外界的干擾，它能夠...
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3D光學(xué)輪廓儀可以測量很多種材料參數(shù)
2021-6-23
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3D光學(xué)輪廓儀對各種產(chǎn)品，部件和材料的表面輪廓，粗糙度、波紋度、面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、孔隙間隙、臺階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進行測量和分析。一句話概括就是超光滑表面（納米級）微觀形態(tài)的量度。傳統(tǒng)的機械零件由于受加工設(shè)備的限制，對精度包括平面度，粗糙度的要求常規(guī)下停留在微米量級。但隨著技術(shù)發(fā)展，人們對機械零件的加工精度要求開始向納米量級邁進，設(shè)備加工精度的提高帶動檢測技術(shù)的發(fā)展，傳統(tǒng)的檢測手段包括接觸式和2D方式的檢測方法對檢測納米量級精度的...
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手持式合金分析儀在對合金材料鑒別領(lǐng)域的應(yīng)用說明
2021-5-24
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手持式合金分析儀是一種XRF光譜分析技術(shù)，X光管產(chǎn)生的X射線打到被測樣品時可以擊出原子的內(nèi)層電子，出現(xiàn)殼層空穴，當(dāng)外層電子從高軌道躍遷到低能軌道來填充軌道空穴時，就會產(chǎn)生特征X射線。X射線探測器將樣品元素的X射線的特征譜線的光信號轉(zhuǎn)換成易于測量的電信號來得到待測元素的特征信息。主要由X光管、探測器、CPU以及存儲器組成。手持式合金分析儀可以使用低功率X射線管分析合金元素。發(fā)射的x射線和返回的x射線都是低功率的，測量時必須使手持式合金分析儀接近樣品。理想的是使樣品進行直接通過接...
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高性能X射線熒光分析儀主要有以下幾個特點
2021-4-23
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高性能X射線熒光分析儀采用良好的硅SIPIN探測器（分辨率為150ev），實現(xiàn)了無液態(tài)氮檢出器下高靈敏度的檢測功能。配備自動切換的濾光片及透射式X射線球管，大程度地縮小了X射線源與被測物體的間距，從而在較低的電壓下達到同樣的激發(fā)效率，同時減少了漫射光的干擾，大大地提高了靈敏度和讀數(shù)的性，重復(fù)性。高性能X射線熒光分析儀主要有以下幾個特點：1、在測定微量成分時，由于X射線管的連續(xù)X射線所產(chǎn)生的散射線會產(chǎn)生較大的背景，致使目標(biāo)峰的觀測比較困難。為了降低或消除背景和特征譜線等的散射X...
